resmi mengumumkan dimulainya instalasi alat produksi di Fab 62, , pada Rabu, 21 Oktober 2026. Fasilitas ini menjadi pabrik manufaktur semikonduktor volume tinggi keenam di kampus dan ditargetkan mulai beroperasi sebelum akhir tahun 2028.
Meskipun kapasitas wafer belum diungkap, Intel telah mengintegrasikan litografi High-NA EUV untuk produksi massal chip Panther Lake di Oregon. Sementara itu, Fab 52 disiapkan khusus untuk node Intel 18A, namun node Intel 14A belum resmi ditunjuk ke Fab 62.
Ekspansi ini memperkuat dominasi domestik Intel dengan pengeluaran tahunan AS mencapai $29 miliar. Proyek lain juga berjalan, termasuk pemasangan rangka struktur di Ohio One serta pengembangan pengemasan canggih seperti EMIB dan Foveros di situs New Mexico.